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本文标题:圆柱形试件抛光-元件实验抛光之影响

信息分类:行业动态　新闻来源：未知发布时间：2012-10-29 23:09:42

圆柱形试件抛光可以分为好几种，特别是绕射式元件新型的抛光法，

而各参数对圆柱件实验抛光之影响又可细分为改变抛光具内孔的安排，确实会影响加工效率、磨粒颗粒越大加工效率较大、抛光液浓度越高所需的时间越少等等；

各参数对绕射元件实验抛光之影响分为下列几项：

(A)工件与抛光具的间隙大小，间隙越大材料移除率小，但尖点高度降低较小，

(B)转速越高材料移除量也越高，但尖点高度降低多，(C)抛光液的浓度越高也会影响材料移除量，也会使得尖点高度下降快。

除此之外，如同前言所讲的，UV绕射式抛光法比传统抛光要来的好，可以由几次学长所做出的试件中，然后用VK-9700明显看出来，

抛光后明显比抛光前，表面粗操度要来的小，也证明了精密加工的过人之处。